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介质薄膜膜厚量测

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产品介绍

该系列设备主要应用于晶圆纳米级的单/多层膜、金属膜的膜厚测量,采用椭圆偏振技术和光谱反射技术实现高精度薄膜膜厚、n-k值的快速测量。主要应用在集成电路前道领域。

产品特点

1、高精度、高重复性膜厚测量,全面覆盖2Xnm及以上工艺需求宽光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射式膜厚仪、应力等多种非接触光学探头可选,满足各种量测场景需求

2、全自动量测任务下发及结果上报,节约人力成本

3、多维度量测结果评价与展示,直观展示工艺问题

4、配置离线分析和批量导入,节约机台使用时间

 

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